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離子切割的加工原理與電子束加工基本類似，也是在真空條件下，將離子源產生的離子束經過加速后撞擊在工件表面上，引起材料變形，破壞分離。由于離子帶正電荷，其質量是電子的千萬倍，因此離子束加工主要靠高速離子束的微觀機械撞擊動能，因此，離子束撞擊工件將引起變形、分離、玻壞等機械作用，而不像電子束是通過熱效應進行加工。在真空室中將離子源產生的離子引出，并在電場中加速，形成幾十電子伏到幾十千電子伏能量的離子束。在離子束濺射沉積、離子束直接沉積或電子束蒸發沉積薄膜的同時，用上述離子束進行轟擊...

從原理上講，掃描電鏡的照明體系與透射電鏡中的類似。但不一樣的是掃描電鏡標樣有一些*需求，例如經聚光鏡作用后抵達樣品處的電子束應是直徑很細的電子探針；電子束能作掃描運動；末級聚光鏡的計劃應便于信號的搜集等。掃描電子鏡電子槍的高壓不及透射電子顯微鏡中那樣高，一般設定在1-50kv。電子槍的陰極可所以熱鎢絲型的，但近年來已更多選用陰極，有些電鏡上選用場發射槍，乃至肖特基熱場發射槍。以熱鎢絲陰極為例，在前述加快電壓下電子發射所構成的光源小的直徑。為了包管較好的分辨率，有必要將它們經聚...

TIC3X電鏡制樣設備可以靈活選擇多種樣品臺，不僅適用于高通量實驗，也適合于特定制樣需求實驗室。依據具體需求，每臺TIC3X都可裝配多種可切換樣品臺，如標準樣品臺、三樣品臺、旋轉樣品臺或冷凍樣品臺，應用于常規樣品制備，高通量樣品制備，以及某些高分子聚合物，橡膠或生物材料等溫度極敏感樣品制備。TIC3X電鏡制樣設備有關樣品的初步處理：1.取材對掃描電鏡來說，樣品可以稍大些，面積可達8×8mm，厚度可達5mm。對于易卷曲的樣品如血管、胃腸道粘膜等，可固定在濾紙或卡片紙上，以充分暴...

真空鍍膜儀以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子炮擊材料外表，使其濺射出進入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數稱為濺射產額，產額越高濺射速度越快，以Cu，Au，Ag等高，Ti，Mo，Ta，W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子能夠直流輝光放電發生，在10-1-10Pa真空度，在兩極間加高壓發生放電，正離子會炮擊負電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。真空鍍膜儀為何要進行定期的清洗？鍍膜儀使用時間久了之后要定期進行清洗。在真空鍍膜儀使用鍍膜材料進行鍍膜之前，...

離子切割是利用惰性氣體元素或其他元素的離子在電場中加速成高速離子束流，以其動能進行各種微細加工的方法，離子束加工在真空中進行，污染少，特別適合加工高純度的半導體材料及易氧化的金屬材料。離子束加工的宏觀壓力小，因此加工應力小，熱變形小，加工表面質量高，適合于各種材料和低剛度零件的加工。離子切割的應用范圍如下：1.去除加工首先把氬、氪或氙等惰性氣體充入低真空度的電離室中，用髙頻放電或直流放電使之等離子化(即正離子數與負離子數相等的混合體），在加速電極的作用下，離子從等離子體中呈束...

三離子束切割儀可靈活選擇多種樣品臺，不僅適用于高通量實驗，也適合于特定制樣需求實驗室。依據用戶具體需求，每臺設備都可裝配多種可切換樣品臺，如標準樣品臺，三樣品臺，旋轉樣品臺或冷凍樣品臺，應用于常規樣品制備，高通量樣品制備，以及某些高分子聚合物，橡膠或生物材料等溫度極敏感樣品制備。其與環境傳輸系統相連接，可以實現將冷凍的生物樣品表面受保護地被真空冷凍傳輸進入鍍膜儀或冷凍掃描電鏡中，或者應用于地質或工業材料樣品，實現真空傳輸。三離子束切割儀的切割槍開關加裝了防止誤操作的滑動按鈕，...

超薄切片機配備低溫冷凍切片臺，利用預編刀臺切片程序，加上內置靜電發生器和冷凍箱，用戶可以很輕易舒適地完成常溫/冷凍的超薄切片工作。兩分鐘內就可完成工作。超薄切片機的圖像處理功能支持各種不同種圖象格式。能可對運動圖象進行專業的運動學處理，對待測圖像背景均勻化、平整區域、背景校正；對待測圖像濾色處理；對運動圖象進行數字形態學處理；對運動圖象進行算術運算；對運動圖象進行顏色分離，對運動圖象進行圖像疊加；對注塑運動圖象進行加強效果色彩、亮度、對比度；對運動圖象進行銳化、柔化、羽化、強...